臭氧（O3）發生器可以通過氧化作用去除COD（化學需氧量），其中主要的氧化過程如下： 直接氧化： 臭氧能夠直接氧化有機物質中的雙鍵、醛基、酸基、烯基等化學結構，將其轉化為穩 . . .

臭氧高級催化氧化小試評價裝置 一、產品介紹 該臭氧高級催化氧化一體化評價裝置由臭氧反應塔、臭氧發生器、臭氧在線檢測儀、附屬設備和電氣儀表等組成，可定制！ 二、產品主要 . . .

臭氧發生器在半導體行業中的作用 在半導體工業中，臭氧通常用于表面處理和清潔，主要作用是氧化和去除表面的有機污染物和雜質，以提高半導體器件的質量和性能。臭氧在半導體中 . . .

實驗室臭氧消毒注意事項 在實驗室使用 臭氧發生器 進行消毒時，需要注意以下事項以確保操作安全和有效性： 通風良好： 在使用臭氧發生器進行消毒前，確保實驗室通風良好，可以 . . .

臭氧發生器臭氧產量與濃度計算公式 臭氧產量和臭氧濃度的關系有一個公式 ，可以計算臭氧產量，公式如下 L/min 60 0.001 g/m3 = g/hr 根據公式我們可以通過氣量和臭氧濃度計算出臭氧產量 . . .

臭氧氧化法測定水中總碳的原理 臭氧氧化法是一種測定水中總碳（Total Carbon，TC）的方法。它的基本原理是將水樣中的有機碳化合物通過臭氧氧化反應轉化為二氧化碳（CO2），然后通過 . . .

什么是納米氣泡，它對臭氧有什么用？ 近年來，納米技術和環境科學的進步為環境保護等各個行業開發了創新解決方案。這些突破包括納米氣泡和臭氧，這兩種強大的物質在改變清潔技 . . .

介紹： 在臭氧注入系統領域，效率和簡單性至關重要。文丘里射流器是將臭氧氣體溶解到水中的推薦方法。美國Mazzei射流器由耐用的 Black Kynar 材料制成，不僅確保了耐臭氧性，還保證 . . .

近些年半導體、ALD蓬勃發展，臭氧被電子工業用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生長、光刻膠去除和多種清潔應用。我們介紹幾款能滿足半導體行業用的 臭氧 發生器 。 1、美國SEMOZON A . . .

EPR是一種非破壞性分析技術，是可用于直接檢測順磁性物質的方法。自由基和過渡金屬離子可以在固體，液體，氣體，細胞和體內進行鑒定和定量。從化學結構到分子間相互作用的 . . .

如何測量臭氧納米氣泡？ 在評估細氣泡的工作原理之前，重要的是要知道您正在使用的細氣泡的尺寸分布和數量濃度。當您注意到它起作用時，您應該知道所需的最小濃度和/或大小分 . . .

電化學傳感器的工作原理 ? 來自樣品的氣體分子在通過擴散介質后被吸附在電催化傳感電極上，并在適當的傳感電極電位下進行電化學反應。這個反應產生的電流與氣體濃度成正比。 . . .

用于原子層沉積（ALD）的臭氧發生器 在納米技術和先進材料中，原子層沉積（ALD）在薄膜和涂層的精密生長中起著舉足輕重的作用。原子層沉積（ALD）以生產具有原子級控制的超薄高質 . . .

文丘里射流器是如何工作的？ 文丘里射流器是將液體或氣體引入水中的高效方法。它們是投加化學品、給水充氣、給臭氧和施肥的理想選擇。 文丘里射流器的工作原理是壓差。 簡而言 . . .

美國2B臭氧檢測儀 各個型號參數對比 哪種臭氧監測儀適合您呢？使用這個全面的 2B Tech 臭氧監測儀比較表，確定最適合您應用的臭氧監測儀。下表比較了各種 2B Tech 臭氧監測儀的規格， . . .

PlasmaBlock 20g Gen2 臭氧發生器介紹 10/20g 機箱是 50g 單元的微型版本。提供常規（側面 PCB）或備用（頂部 PCB）安裝。常規安裝座頂部有連接端口（氧氣輸入，臭氧輸出），備用安裝座側面 . . .

Aeroqual S500系列檢測儀故障問題排除 使用此表可幫助診斷 500 系列手持式顯示器的故障。 如果無法在表格中找到故障，或者建議的修復不起作用，請聯系技術支持。 故障 可能的原因 解 . . .

在臭氧檢測中經常出現mol/mol，在即將實施的JJF 2051-2023《臭氧老化試驗箱校準規范》中，就提到該規范適用于臭氧濃度范圍（0～400）mol/mol、溫度范圍（0～100）℃、相對濕度范圍（10～ . . .

臭氧濃度在空氣和水中單位轉換 在線 臭氧計算器 在這里找到 臭氧發生器輸出： （（LPM x 60） x 0.001） x g/m3 = g/hr *示例 （（10 LPM x 60） x 0.001） x 10 g/m3 = 6 g/hr 臭氧產量 空氣中臭氧濃度 . . .

OG-3臭氧源可用于Eco Sensors儀器的校準驗證和近似現場校準。它采用精密紫外微型燈，發出0.1 ppm或1.0 ppm的臭氧(訂購時指定)。臭氧輸出水平標示在OG-3上。OG-3可用于實地檢查儀器，以核實 . . .